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關(guān)于石材磨料拋光技術(shù)
作者：百輝自動化設(shè)備日期：2019-03-11 08:17點(diǎn)擊：次
1.石材的磨拋技術(shù)的種類
用金剛石微粉、碳化硅微粉和白剛玉微粉等作為散狀磨料，再與液體或軟膏混合成拋光懸浮液或拋光膏作為拋光劑，用適當(dāng)?shù)难b置加到磨具或工件上進(jìn)行拋光。這種技術(shù)就是散狀磨料拋光技術(shù)。
不同的磨料要配**用不同材質(zhì)的磨具。比如使用金剛石磨料時(shí)則更好用鍍錫磨具，而碳化硅磨料時(shí)要用灰鑄鐵磨具。但是由于磨料要用人工或用計(jì)量裝置加到工件上，因此磨料分布不均勻，而且需要由技術(shù)熟練的技工操作才能達(dá)到高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。而采用拋光磨頭技術(shù)則可以避免出現(xiàn)此類情況：磨料分布均勻，拋光質(zhì)量好而且質(zhì)量穩(wěn)定，易于實(shí)現(xiàn)連續(xù)作業(yè)，拋光效率高，一般拋光時(shí)間比用散狀金剛石磨料減少30％。
這種拋光磨頭技術(shù)，用粘結(jié)磨料，即把金剛石、碳化硅或白剛玉微粉作磨料與結(jié)合劑，以燒結(jié)、電鍍或者粘結(jié)的技術(shù)制成磨塊。固定到磨盤上制成拋光磨頭。小磨塊一般用瀝青或硫磺等材料粘接，大磨塊則用燕尾槽連接到磨盤上。
石材磨削的實(shí)質(zhì)是在人力或機(jī)械力的作用下，回轉(zhuǎn)的磨盤對石料不斷垂直給進(jìn)，兩者在接觸區(qū)內(nèi)相互摩擦、磨損，把板材表面層的凹凸面逐漸磨平。由于花崗石類巖石一般比較堅(jiān)硬，磨具的硬度一定要超過石材的硬度。一般情況要采用六套磨具來完成磨削、研磨拋光過程。前兩個(gè)磨具要進(jìn)行強(qiáng)制定位磨削，起找平和控制板材的厚度的作用；后面的磨具分別進(jìn)行粗磨、細(xì)磨、研磨拋光等工序。
根據(jù)直徑大小，磨塊形狀、數(shù)量和布置技術(shù)，磨料所用粘結(jié)劑以及磨料粒度等的不同，磨頭有不同的結(jié)構(gòu)。磨頭直徑有4～12英寸等多種，更常用的是10英寸。磨塊形狀有直條形、長橢圓形、傘形、環(huán)形等，以直條形和長橢圓形更為普遍。磨塊數(shù)量視磨頭直徑和磨塊大小而定，從數(shù)塊到十來塊。磨塊的布置技術(shù)以放射狀為更常見，但也有按螺線技術(shù)布置的。磨料所用粘結(jié)劑有金屬粘結(jié)劑、樹脂粘結(jié)劑、菱苦土和聚合物等。各廠家選用磨料粒度的范圍不一。對金剛石磨料來說，從粗磨磨頭用的30目到拋光磨頭用的幾個(gè)μm都有。
2．影響石材磨拋質(zhì)量的因素
石材的品種很多，其物理性質(zhì)、化學(xué)成分、晶粒粗細(xì)和礦物晶體組分的差異等都對拋光質(zhì)量有影響。由于石材的晶質(zhì)不同，在拋光時(shí)會形成不均勻的表面。晶粒較大的石材，拋光的不均勻性比晶粒小的石材明顯，所以小晶粒石材比大晶粒石材易于拋光。
拋光磨頭進(jìn)給速率對拋光質(zhì)量影響很大，研究表明，隨著拋光磨頭進(jìn)給速率的提高，石材表面光澤度會下降，但進(jìn)給速率過低則會加快磨頭磨損和降低生產(chǎn)效率。拋光磨頭的運(yùn)行技術(shù)要和粗磨、細(xì)磨磨頭的運(yùn)行技術(shù)配合進(jìn)行。磨頭運(yùn)行技術(shù)有縱向橫向和疏密程度之分。
用金剛石微粉、碳化硅微粉和白剛玉微粉等作為散狀磨料，再與液體或軟膏混合成拋光懸浮液或拋光膏作為拋光劑，用適當(dāng)?shù)难b置加到磨具或工件上進(jìn)行拋光。這種技術(shù)就是散狀磨料拋光技術(shù)。
不同的磨料要配**用不同材質(zhì)的磨具。比如使用金剛石磨料時(shí)則更好用鍍錫磨具，而碳化硅磨料時(shí)要用灰鑄鐵磨具。但是由于磨料要用人工或用計(jì)量裝置加到工件上，因此磨料分布不均勻，而且需要由技術(shù)熟練的技工操作才能達(dá)到高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。而采用拋光磨頭技術(shù)則可以避免出現(xiàn)此類情況：磨料分布均勻，拋光質(zhì)量好而且質(zhì)量穩(wěn)定，易于實(shí)現(xiàn)連續(xù)作業(yè)，拋光效率高，一般拋光時(shí)間比用散狀金剛石磨料減少30％。
這種拋光磨頭技術(shù)，用粘結(jié)磨料，即把金剛石、碳化硅或白剛玉微粉作磨料與結(jié)合劑，以燒結(jié)、電鍍或者粘結(jié)的技術(shù)制成磨塊。固定到磨盤上制成拋光磨頭。小磨塊一般用瀝青或硫磺等材料粘接，大磨塊則用燕尾槽連接到磨盤上。
石材磨削的實(shí)質(zhì)是在人力或機(jī)械力的作用下，回轉(zhuǎn)的磨盤對石料不斷垂直給進(jìn)，兩者在接觸區(qū)內(nèi)相互摩擦、磨損，把板材表面層的凹凸面逐漸磨平。由于花崗石類巖石一般比較堅(jiān)硬，磨具的硬度一定要超過石材的硬度。一般情況要采用六套磨具來完成磨削、研磨拋光過程。前兩個(gè)磨具要進(jìn)行強(qiáng)制定位磨削，起找平和控制板材的厚度的作用；后面的磨具分別進(jìn)行粗磨、細(xì)磨、研磨拋光等工序。
根據(jù)直徑大小，磨塊形狀、數(shù)量和布置技術(shù)，磨料所用粘結(jié)劑以及磨料粒度等的不同，磨頭有不同的結(jié)構(gòu)。磨頭直徑有4～12英寸等多種，更常用的是10英寸。磨塊形狀有直條形、長橢圓形、傘形、環(huán)形等，以直條形和長橢圓形更為普遍。磨塊數(shù)量視磨頭直徑和磨塊大小而定，從數(shù)塊到十來塊。磨塊的布置技術(shù)以放射狀為更常見，但也有按螺線技術(shù)布置的。磨料所用粘結(jié)劑有金屬粘結(jié)劑、樹脂粘結(jié)劑、菱苦土和聚合物等。各廠家選用磨料粒度的范圍不一。對金剛石磨料來說，從粗磨磨頭用的30目到拋光磨頭用的幾個(gè)μm都有。
2．影響石材磨拋質(zhì)量的因素
石材的品種很多，其物理性質(zhì)、化學(xué)成分、晶粒粗細(xì)和礦物晶體組分的差異等都對拋光質(zhì)量有影響。由于石材的晶質(zhì)不同，在拋光時(shí)會形成不均勻的表面。晶粒較大的石材，拋光的不均勻性比晶粒小的石材明顯，所以小晶粒石材比大晶粒石材易于拋光。
拋光磨頭進(jìn)給速率對拋光質(zhì)量影響很大，研究表明，隨著拋光磨頭進(jìn)給速率的提高，石材表面光澤度會下降，但進(jìn)給速率過低則會加快磨頭磨損和降低生產(chǎn)效率。拋光磨頭的運(yùn)行技術(shù)要和粗磨、細(xì)磨磨頭的運(yùn)行技術(shù)配合進(jìn)行。磨頭運(yùn)行技術(shù)有縱向橫向和疏密程度之分。